日荷加强光刻机技术半导体合作，推进2nm量产工艺

　　6月26日消息，日本经济产业省和荷兰经济事务和气候政策部在东京签署了一份光刻机技术半导体合作备忘录。双方将共同推进日本晶圆代工商Rapidus和荷兰光刻机巨头ASML的合作，以期量产2nm工艺。

　　日荷加强半导体光刻机技术合作推进2nm量产工艺。据报道，ASML是生产尖端半导体工艺所需EUV光刻机的厂商。Rapidus计划使用经济产业省提供的补贴购买EUV光刻设备。值得注意的是，EUV光刻机在全球范围内非常短缺，面临着台积电、英特尔、三星等巨头的竞争。因此，如果Rapidus和ASML展开合作，有望加强供应链。

　　出席签约仪式的日本经济产业大臣西村康稔以Rapidus为例，表示“希望加强半导体领域的政府间合作”。此前，荷兰和日本先后追随美国的脚步，加强半导体出口管制。日本将于7月起将半导体制造设备等23项产品加入出口管制名单，荷兰也将在本周加强对ASML的5nm级DUV光刻机NXT:2000i、NXT:2050i和NXT:2100i的出口管制。

　　此次合作备忘录的签署表明日本和荷兰将在半导体领域加强合作，共同推进先进工艺的发展。这一举措也将为Rapidus和ASML的合作提供更多支持和便利，从而加强供应链并提高其在全球市场中的竞争力。

文章来源于IT之家