“难产”的国产光刻机

首先简单来说一下光刻机，光刻机作为半导体行业中重中之重的利器，中科院光电所的胡松、贺晓栋在《中科院之声》发表的一篇文章中这样介绍它的重要性：后工业时代包括现在的工业3.0、工业4.0，都以芯片为基础，光刻机作为制造芯片的工具，就相当于工业时代的机床，前工业时代的人手。

根据所使用的光源的改进以及工艺的不断创新，光刻机经历了五代产品的发展，其中每次光源的改进都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。

尽管中芯国际表示可以不使用光刻机，用自研的“N+1”制程工艺就能够研发出7nm工艺（逼得中芯都直接不用光刻机了），但5nm乃至更先进制程工艺芯片产品也是离不开光刻机的。

据消息称，华为目前所设计的芯片已经正式进入到了5nm时代，即将在下半年推出的麒麟1020芯片就会采用5nm芯片工艺。

此外，近期国产光刻机也迎来好消息:上海微电子公司打破封锁,研发出 22nm 光刻机。虽然与国外差距还很大，但这也是我国在光刻机领域的先进水平。

相信未来随着国产自主研发的步伐，我们能摆脱对国外厂商的依赖，国产芯片能实现飞速发展。但在未来之前，还有很长一段路要走。

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